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Yano Hiroshi

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Articles
  • Carbon dangling-bond center (carbon Pb center) at 4H-SiC(0001)/SiO2 interface
    Umeda T.; Kobayashi T.; 染谷満; Yano Hiroshi; Matsushita ...
    Appl. Phys. Lett./116(7)/pp.071604-1-071604-5, 2020-02
  • Ideal phonon-scattering-limited mobility in inversion channel of 4H-SiC(0001) MOSFETs with ultralow net doping concentrations
    染谷満; 細井卓治; Hirai H.; Hatakeyama T.; Harada S.; Yan...
    Appl. Phys. Lett./115(13)/pp.132102-1-132102-5, 2019-09
  • SiCパワーデバイス特有の信頼性課題 酸化膜および界面
    矢野 裕司
    先進パワー半導体分科会 2018年度チュートリアル/pp.103-137, 2018-11
  • Ba添加によるSiC MOSFET特性向上の起源の検討
    藤田栄悟; 細井卓治; 染⾕満; 畠⼭哲夫; 原田信介; 矢野 裕司...
    第79回応用物理学会秋季学術講演会 講演予稿集/p.13-172, 2018-09
  • 低不純物濃度4H-SiC(0001)基板上に作製したMOSFETのホール効果移動度に対するNO-POAの影響
    染⾕満; 細井卓治; 畠⼭哲夫; 原田信介; 矢野 裕司; 志村考功...
    第79回応用物理学会秋季学術講演会 講演予稿集/p.13-171, 2018-09
  • 4H-SiC MOSFETのしきい値電圧不安定性を引き起こす酸化膜トラップの空間分布
    岡本光央; 染谷満; 原田信介; 矢野 裕司; 奥村元
    先進パワー半導体分科会 第5回講演会 予稿集/pp.281-282, 2018-11
  • n型Si面4H-SiC MOSFETの閾値電圧とHall移動度の温度特性
    本田達也; 矢野 裕司
    先進パワー半導体分科会 第5回講演会 予稿集/pp.229-230, 2018-11
  • SiO2/SiC界面の移動度及び伝導帯近傍の界面準位密度に対する面方位の効果
    畠山哲夫; 増田健良; 染谷満; 岡本大; 原田信介; 矢野 裕司; ...
    先進パワー半導体分科会 第5回講演会 予稿集/pp.227-228, 2018-11
  • 超低実効pエピ濃度基板を用いて評価した4H-SiC(0001) MOSFETの反転チャネル電子の散乱要因
    染谷満; 細井卓治; 平井悠久; 畠山哲夫; 原田信介; 矢野 裕司...
    先進パワー半導体分科会 第5回講演会 予稿集/pp.225-226, 2018-11
  • pチャネル4H-SiC MOSFETにおける酸化膜リーク電流伝導機構の解析
    根本 宏樹; 岡本 大; 染谷 満; 木内 祐治; 岡本 光央; 畠山 ...
    先進パワー半導体分科会 第5回講演会 予稿集/pp.105-106, 2018-11
  • Hall効果測定によるpチャネル4H-SiC MOSFETのチャネル輸送機構の解明
    周 星炎; 岡本 大; 畠山 哲夫; 染谷 満; 原田 信介; 岡本 光...
    先進パワー半導体分科会 第5回講演会 予稿集/pp.101-102, 2018-11
  • 4H-SiC(0001) MOSFETの可動電子密度の温度依存性に基づくチャネル内電子伝導機構の考察
    武田紘典; 染谷満; 細井卓治; 志村考功; 矢野 裕司; 渡部平司
    先進パワー半導体分科会 第5回講演会 予稿集/pp.97-98, 2018-11
  • 温度可変ホール効果測定による4H-SiC(0001) MOSFETチャネル内電子伝導機構の考察
    武田紘典; 染谷満; 細井卓治; 志村考功; 矢野 裕司; 渡部平司
    電子デバイス界面テクノロジー研究会 -材料・プロセス・デバイス特性の物理- 第24回研究会 予稿集/pp.225-228, 2019-01
  • Interface Characterization of Nitrided a- and m-Face 4H-SiC MOS Structures Using Distributed Circuit Model
    X. Zhang; D. Okamoto; T. Hatakeyama; M. Sometani; S. Hara...
    電子デバイス界面テクノロジー研究会 -材料・プロセス・デバイス特性の物理- 第24回研究会 予稿集/pp.221-224, 2019-01
  • Influence of biaxial stress on the electron transport properties at SiO2/4H-SiC interfaces
    W. Fu; A. Ueda; 矢野 裕司; S. Harada; T. Sakurai
    第66回応用物理学会春季学術講演会 講演予稿集/p.12-037, 2019-03
  • Investigation of Unclamped Inductive Switching Capability of Silicon Carbide MOSFETs
    姚 凱倫; 矢野 裕司; 岩室 憲幸
    平成31年電気学会全国大会 講演論文集/pp.10-11, 2019-03
  • SiCトレンチMOSFETターンオン特性の温度依存性評価
    饗場 塁士; 大川 雅貴; 金森 大河; 小林 勇介; 原田 信...
    平成31年電気学会全国大会 講演論文集/pp.18-19, 2019-03
  • SiC MOSFETの負荷短絡試験におけるゲート漏れ電流と破壊メカニズムの評価解析
    大川 雅貴; 飯嶋竜司; 岡本大; 矢野 裕司; 岩室 憲幸
    平成31年電気学会全国大会 講演論文集/pp.22-23, 2019-03
  • SiCトレンチMOSFETの内蔵ダイオードの特性解析
    金森 大河; 饗場 塁士; 大川 雅貴; 原田 信介; 矢野 裕...
    平成31年電気学会全国大会 講演論文集/pp.12-13, 2019-03
  • Analysis of oxide traps causing threshold voltage instability in 4H-SiC MOSFETs via capture time map
    Okamoto M.; Sometani M.; Harada S.; Yano Hiroshi; Okumura H.
    Abstract of 12th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2018)/p.MO.P.MI7, 2018-09
  • Interface Trap Densities near the Band Edge of SiO2/4H-SiC (0_338(_)), (112(_)0) and {0001} and their Impacts on Electron Transport
    Hatakeyama T.; Masuda T.; Sometani M.; Okamoto D.; Harada...
    Abstract of 12th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2018)/p.WE.02b.06, 2018-09
  • Superiority of pure O2-based gate oxidation on Hall effect mobility of 4H-SiC (0001) MOSFET revealed by low-doped epitaxial wafers
    Sometani M.; Hosoi T.; Hatakeyama T.; Harada S.; Yano Hir...
    Abstract of 12th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2018)/p.WE.02b.05, 2018-09
  • Mobility limiting mechanisms in p-channel 4H-SiC MOSFETs investigated by Hall-effect measurements”
    Zhou X.; 岡本大; Hatakeyama T.; 染谷 満; 原田 信介; 張...
    Abstract of 12th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2018)/p.WE.02b.04, 2018-09
  • Analysis of leakage current conduction mechanisms in thermally grown oxides on p-channel 4H-SiC MOSFETs
    宏樹 根本; 岡本 大; 満 染谷; Kiuchi Y; Hatakeyama T.; 原...
    Abstract of 12th European Conference on Silicon Carbide and Related Materials (ECSCRM2018)/p.We.P.MI6, 2018-09
  • Demonstration of High Channel Mobility and Low Trapped Electron Density of SiO2/SiC (0-33-8) Interfaces
    Masuda T.; Hatakeyama T.; Harada S.; Yano Hiroshi
    Ext. abstract of 2018 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2018)/pp.249-250, 2018-09