IWAMURO Noriyuki

Researcher's full information

Conference, etc.
  • State-of-the-art and Future Prospective of Si-IGBT Technologies,
    Iwamuro Noriyuki
    The 4th Int. Academic Forum of China IGBT Technology Innovation and Industry Alliance/2018-11-06--2018-11-06
  • Recent Progress of SiC MOSFET Devices (Planary talk)
    Iwamuro Noriyuki
    Asia-Pacific Conference on Silicon Carbide and Related Materials (APCSCRM) 2018/2018-07-09--2018-07-12
  • Study on Voltage Utilization Ratio of Complementary Inverter depends on SiC-pMOSFET Characteristics
    吉田 千恵; 磯部 高範; 岩室 憲幸; 只野博
    平成30年電気学会全国大会/2018-03-14--2018-03-16
  • Analysis of fast and slow responses in AC conductance curves for p-type SiC MOS capacitors
    Karamoto Yuki; Zhang Xufang; Okamoto Dai; Sometani Mitsu...
    International Workshop on Dielectric Thin Films for Future Electron Devices - Science and Technology (IWDTF)/2017-11-20--2017-11-22
  • パワー半導体デバイス~日本に残すべき体系的パワエレ技術~
    岩室憲幸
    電子デバイス界面テクノロジー研究会 -材料・プロセス・デバイス特性の物理- 第22回研究会/2017-1-20--2017-01-22
  • Analysis of fast and slow responses of interface traps in p-type SiC MOS capacitors by conductance method
    Karamoto YUki; Zhang Xufang; Okamoto Dai; Sometani Mitsu...
    International Workshop on Dielectric Thin films for Future Electron Devices (IWDTF 2017)/2017-11-20--2017-11-22
  • Impact of oxide thickness on the density distribution of near-interface traps in 4H-SiC MOS capacitors
    Zhang Xufang; Okamoto Dai; Hatakeyama Tetsuo; Sometani M...
    International Workshop on Dielectric Thin films for Future Electron Devices (IWDTF 2017)/2017-11-20--2017-11-22
  • マルチエピタキシャル型SiC SJ ダイオードの電気特性のプロセス依存性
    原田穣; 森本忠雄; 原田信介; 岩室 憲幸
    第65回 応用物理学会 春季学術講演会/2018-03-17--2018-03-20
  • Impact of passivation treatments on channel mobility for p-channel 4H-SiC MOSFETs
    周星炎; 岡本大; 畠山哲夫; 染谷満; 原田信介; 唐本祐樹; 張旭芳; 岩室憲幸; 矢野裕司
    第65回 応用物理学会 春季学術講演会/2018-03-17--2018-03-20
  • メタルアニール工程を省いた4H-SiCイオン注入n+層オーミックコンタクト実現の検討
    北島魁人; 岡本大; 矢野裕司; 岩室 憲幸
    平成30年電気学会全国大会/2018-03-14--2018-03-16
  • Experimental demonstration on ultra-high voltae and high speed 4H-SiC DSRD with smaller numbers of die stacks for pulse power applications
    Goto Taiga; Shirai Takuma; Tokuchi Akira; Naito Takashi; ...
    International Conference of Silicon Carbide and Related Materials 2017/2017-09-16--2017-09-22
  • Methodology for Enhanced Short-Circuit capability of SiC MOSFETs
    An Junjie; Namai Masaki; Yano Hiroshi; Kobayashi Yusuke; ...
    30th International Symposium on Power Semiconductor Devices & ICs/2018-05-13--2018-05-17
  • Impact of passivation treatments on channel mobility for p-channel 4H-SiC MOSFETs
    X Zhou; D Okamoto; T Hatakeyama; M Sometani; S Harada; Y ...
    第65回 応用物理学会 春季学術講演会/2018-03-17--2018-03-20
  • Analysis of conduction mechanism of leakage current in thermally grown oxide
    根本 宏樹; 岡本 大; 染谷 満; 木内 祐治; 畠山 哲夫; 原田 信介; 岩室 憲幸; 矢野 裕司
    第65回 応用物理学会 春季学術講演会/2018-03-17--2018-03-20
  • Difference of NIT density distribution in 4H-SiC MOS interfaces for Si- and C-faces
    張 旭芳; 岡本 大; 畠山 哲夫; 染谷 満; 原田 信介; 岩室 憲幸; 矢野 裕司
    第23回電子デバイス界面テクノロジー研究会/2018-01-18--2018-01-20
  • Verification of density distribution of near-interface traps in 4H-SiC MOS capacitors with different oxide thicknesses
    張 旭芳; 岡本 大; 畠山 哲夫; 染谷 満; 原田 信介; 岩室 憲幸; 矢野 裕司
    第78回応用物理学会秋季学術講演会/2017-09-05--2017-09-08
  • Analysis of fast and slow responses of interface traps in p-type SiC MOS capacitors by conductance method
    唐本 祐樹; 張 旭芳; 岡本 大; 染谷 満; 畠山 哲夫; 原田 信介; 岩室 憲幸; 矢野 裕司
    先進パワー半導体分科会 第4回講演会/2017-11-01--2017-11-02
  • Density distribution of near-interface traps in 4H-SiC MOS structures with different oxide thicknesses
    張 旭芳; 岡本 大; 畠山 哲夫; 染谷 満; 原田 信介; 岩室 憲幸; 矢野 裕司
    先進パワー半導体分科会 第4回講演会/2017-11-01--2017-11-02
  • Analysis of interface characteristics on p-type SiC MOS capacitors by conductance method
    唐本 祐樹; 張 旭芳; 岡本 大; 染谷 満; 畠山 哲夫; 原田 信介; 岩室 憲幸; 矢野 裕司
    第78回応用物理学会秋季学術講演会/2017-09-05--2017-09-08
  • Recent Progress of Power Semiconductor Devices and Their Futures
    Iwamuro Noriyuki
    IEEE-CPMT Symposium Japan (ICSJ)/2017-11-20--2017-11-22
  • 窒化したp 型SiC MOS キャパシタにおける反転層の形成
    唐本祐樹; 岡本大; 原田信介; 染谷満; 畠山哲夫; 小杉亮治; 岩室憲幸; 矢野裕司
    第77回応用物理学会秋季学術講演会/2016-09-13--2016-09-16
  • 窒化したSiC MOSFETに対するチャージポンピング特性の周波数依存性
    王緒昆; 岡本大; 原田信介; 岩室憲幸; 矢野裕司
    第77回応用物理学会秋季学術講演会/2016-09-13--2016-09-16
  • A Distributed Model for Near-Interface Traps in 4H-SiC MOS Capacitors
    Zhang X. F.; Okamoto D.; Hatakeyama T.; Sometani M.; Hara...
    第77回応用物理学会秋季学術講演会/2016-09-13--2016-09-16
  • A Distributed Model for Near-Interface Traps in 4H-SiC MOS Capacitors
    Zhang X. F.; Okamoto D.; Hatakeyama T.; Sometani M.; Hara...
    47th IEEE Semiconductor interface Specialist Conference (SISC2016)/2016-12-07--2016-12-10
  • 直列抵抗を考慮したインピーダンス測定によるSiC MOS界面解析
    岡本大; 張旭芳; 畠山哲夫; 染谷満; 原田信介; 小杉亮治; 岩室憲幸; 矢野裕司
    第77回応用物理学会秋季学術講演会/2016-09-13--2016-09-16
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